触摸屏中光刻胶层和ITO层厚度测量

触摸屏中光刻胶层和ITO层厚度测量：

触摸屏样品：在玻璃基底上覆盖ITO导电层和光刻胶(方形图案)，使用MProbeMSP Vis薄膜测厚仪进行测量，这套薄膜测厚仪的测量范围是10nm-20um，配备显微镜，包含一个CCD，用于对测量位置的成像和导航。

光刻胶大约15umX15um(图1)，使用40倍物镜，测量光斑的直径约10um。

图1 光刻胶斑点(15umX15um)，使用40倍物镜成像

图1 光刻胶斑点(15umX15um)，使用40倍物镜成像

光刻胶的折射率通过Cauchy模型来拟合(1.65)，图2是测量得到的反射率曲线，使用厚薄膜的模型来计算厚度。因为光刻胶的厚度在3um-4um之间，且在这个例子中ITO层很薄，不用考虑ITO层的影响。ITO层的厚度单独测量(见图4)

 图2.光刻胶的反射光谱

 图3 薄膜厚度分析结果，光刻胶的厚度为3.561um

图4ITO导电层的厚度为12.8nm

我们乐意为您进行免费样品测量，欢迎来电咨询。

美国Semiconsoft中国总代理   上海全耀仪器设备有限公司    

Email：info@filmgauge.com.cn

代理产品：薄膜测厚仪，薄膜测试仪，膜厚仪等；欢迎广大客户前来订购！