产品中心
products center

您的当前位置:全耀首页 > 产品中心 > 反射光谱薄膜测厚仪 > MProbe系列薄膜测厚仪

反射光谱薄膜测厚仪

[返回列表]

MProbe系列薄膜测厚仪


参考价格:15-20万

型号:MProbe

反射光谱干涉法是一种非接触式、无损的、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术。

产品详情 资料下载 视频中心



  当一束光入射到薄膜表面时,薄膜上表面和下表面的反射光会发生干涉,干涉的发生与薄膜厚度及光学常数等有关,反射光谱薄膜测厚仪就是基于此原理来测量薄膜厚度。

  反射光谱干涉法是一种非接触式、无损的、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术。

  测量范围: 1 nm - 1 mm

  波长范围: 200 nm -8000 nm

  光斑尺寸:2mum -3 um

  产品特点:

  a. 最高的测量精度:0.01nm或0.01%

  b. 准确度:1nm或0.2%

  c. 稳定性:0.02nm或0.02%

  d. 强大的软件材料库,包含500多种材料的光学常数

  e. 通过Modbus TCP或OPC协议,与其他设备联用

  适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等


  大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

  标准配置中包含:

  1. 主机(光谱仪,光源,电线)

  2. 反射光纤

  3. 样品台及光纤适配器

  4. TFCompanion软件

  5. 校准套装

  6. 测试样品,200nm晶圆

  广泛的应用于各种工业生产及工艺监控中:

  半导体晶圆,薄膜太阳能电池,液晶平板,触摸屛,光学镀膜,聚合物薄膜等



多种型号可选,每个型号对应不同的测量范围:



 测量n和k值,其厚度范围需在25纳米和5微米之间

  还有其他配置可供选择

  提供OEM和客户定制化服务

  保修期1年


上海全耀代理产品:膜厚测量仪,薄膜测试仪,膜厚仪,厚度测量仪以及MProbe MSP显微薄膜测试仪等,欢迎广大用户前来订购。


暂无数据

上一个产品: 暂无上一篇

下一个产品: MProbe Vis薄膜测厚仪

相关产品

  • 便携式探头

    测量曲面样品或样品无法移动时,需要用到特殊的探头,这些探头包裹一层柔性橡胶,可以直接放到样品上面,用光纤将其与主机相连。基于不同的应用,有三个型号可选。 MP-FLVi:用于基底较薄且透光的薄膜,需要消除背面反射 MP-RP90:用于可接受2mm光斑直径及不需要考虑背面反射的样品 MP-RP45:可用45度测量厚度 MP-FLVis 包含可见光聚焦镜头,0.4mm光斑直径 MP-RP90 2mm光斑直径,光谱范围较宽 MP-RP45 包含两个石英准直器,以45度角测量样品 我们乐意为您进行免费样品测量,欢迎来电咨询。 美国Semiconsoft中国总代理 上海全耀仪器设备有限公司 全国咨询热线:400-992-5592 Email:info@filmgauge.com.cn 上海全耀代理产品:膜厚测量仪,薄膜测试仪,膜厚仪,厚度测量仪以及MProbe MSP显微薄膜测试仪等,欢迎广大用户前来订购。

  • MProbe Vis薄膜测厚仪

    大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被MProbe Vis测厚仪测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)。 测量范围: 15 nm -50um 波长范围: 400 nm -1100 nm MProbe Vis薄膜测厚仪适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 测量指标:薄膜厚度,光学常数 界面友好强大: 一键式测量和分析。 MProbe Vis薄膜测厚仪实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。 (MProble NIR薄膜测厚仪系统示) 性能参数: 精度 <0.01nm or0.01% 准确度 <0.2% or 1 nm 稳定性 <0.02nm or 0.03% 光斑直径 标准3mm, 可以小至3um 样品大小 大于1 mm 案例1,300nm二氧化硅薄膜的测量: 硅晶圆反射率,测量时间10ms: 案例2,测量500nm氮化铝,测量参数:厚度和表面粗糙...

  • MProbe RT薄膜测厚仪

    该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 测量范围: 1 nm -20um(UVVis),1nm-150um(UVVisNIR) 波长范围: 200 nm -1000 nm(UVVis) 200nm-1700nm(UVVisNIR) 适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等; 蓝宝石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率,波长范围(200-1700nm): 系统性能参数: 精度 <0.1nm or 0.01% 准确度 <0.2%or 1 nm 稳定性 <0.05nmor 0.03% 光斑直径 标准2mm, 可以小至3um 样品大小 大于1 mm 测量指标:薄膜厚度,光学常数 界面友好强大: 一键式测量和分析。 实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。 技术参数: 测量范围 ...

  • MProbe NIR薄膜测厚仪

    采用近红外光谱(NIR)的测厚仪可以用于测量一些可见光和紫外光无法使用的应用领域,比如在可见光范围内有吸收的太阳能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的测量。 测量范围: 100 nm -200um 波长范围: 900 nm -2500 nm 适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 测量指标:薄膜厚度,光学常数 界面友好强大: 一键式测量和分析。 实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。 (MProble NIR薄膜测厚仪系统示) 系统性能参数: 精度 <0.01nm or 0.01% 准确度 <0.2%or 1 nm 稳定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直径 标准3mm, 可以小至3um 样品大小 大于1 mm 技术参数: 测量范围 100nm-200um 精度 <0.01nmor 0.01% 准确度 <0.2%or 1 nm 稳定性 <0.02nmor 0.03% 波长范围 NIR: 900-1700 NIRX: 900-2200 NIRX2:1550-2500nm ...